Intel completa el ensamblaje de la primera máquina comercial de litografía EUV de apertura numérica alta
El gigante de los semiconductores Intel anunció el día 18 que ha completado la asamblea de la primera máquina comercial de litografía comercial de alta apertura numérica comercial (High-NA EUV) en su centro de investigación y desarrollo en Oregón.
El fabricante de equipos de semiconductores ASML publicó imágenes en la plataforma social X a fines del año pasado, mostrando el inicio de enviar las partes principales del primer sistema EUV de apertura numérica alta a Intel.Ahora Intel ha anunciado que ha completado la Asamblea, demostrando una clara intención de liderar a sus competidores.
Después de desarrollar 5 nodos de proceso en 4 años y esperar que el más avanzado alcance el proceso Intel 18a, Intel planea introducir oficialmente el uso de una alta apertura numérica EUV en su proceso Intel 14A en el futuro.Según las estimaciones de los analistas, el precio de este dispositivo EUV numérico de apertura numérica fue de aproximadamente 250 millones de euros.
Intel recientemente reveló que desarrollará el proceso 14A y el proceso Intel 14A-E antes de 2027.
Intel enfatiza que el dispositivo EUV EUV de alta apertura numérica Twinscan exe: 5000 está actualmente en calibración, y se espera que este dispositivo, combinado con otras tecnologías dentro de la fábrica de obleas de la compañía, produzca características 1.7 veces más pequeñas que los dispositivos EUV existentes.
Mientras tanto, Intel mencionó que la compañía también ha planeado comprar el sistema Twinscan Exe: 5200b de próxima generación en el futuro.